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沈陽科友真空技術有限公司公告
磁控濺射鍍膜設備

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CIGS光伏模組制造設備和儀器

2017-03-17 點擊量:

1. 每個鍍膜室內配有磁控靶1套,水冷,射頻和直流兼容。靶材利用率30%, 膜層厚度均勻性<±3%,靶基距連續可調(根據客戶要求設計)
2. 進樣室、出樣室、濺射鍍膜室多個,呈in-line排布;該系統可根據工藝需要升級為更多真空室的結構,鍍膜過程可自動化操作。